Subaperture stitching interferometry was originally developed to allow for the full-aperture measurement of large-aperture spheres and flats using commercially available 4'' or 6'' interferometers and transmission elements.1-3 The method was then extended to the measurement of mild aspheric surfaces, by exploiting the local best-fitting and magnification of the high density fringe patterns associated with non-null interferometry.4 In both cases, advanced stitching algorithms have been developed to automatically compensate for systematic interferometer errors such as reference wavefront and distortion errors.5 Stitching interferometry also provides for higher lateral spatial resolution than conventional interferometry. Subaperture stitching interferometry has now been extended to the measurement of high-departure aspheres through the use of a variable optical null (VONTM) device. The VON can have a variety of realizations that serve to generate an optical wavefront that closely matches the surface of the asphere within a local subaperture. The residual wavefront error is measured with a standard interferometer, and the full-aperture surface profile of the asphere is reconstructed using advanced stitching algorithms. This method allows for the accurate measurement of aspheres with up to 1000 waves of departure from best-fit sphere, without the use of dedicated null lenses. This paper presents the basic principles of subaperture stitching interferometry incorporating a specific VON. and Metoda SSI (Subaperture Stitching Interferometry) byla původně vyvinuta pro měření celých apertur rozměrných koulí a rovin s využitím komerčních čtyř nebo šestipalcových interferometrů a transmisních prvků. Metoda pak byla rozšířena pro měření mírně asférických povrchů pomocí nejlepšího lokálního proložení, nazvětšováním velmi hustých interferenčních proužků a propojením s nenulovou interferometrií. V obou případech byl vyvinut vylepšený sešívací algoritmus automaticky kompenzující systematické chyby interferometru, jako jsou referenční vlnoplocha a distorzní chyby. Tento sešívací druh interferometrie rovněž poskytuje větší příčné prostorové rozlišení než konvenční interferometrie. Metoda byla dále rozšířena na výrazně asférické povrchy s využitím stavitelného optického zařízení VON™ (variable optical null). VON má různé realizace, které slouží ke generování vlnoplochy přesně lokálně kopírující povrch asféry. Zbytková odchylka od vlnoplochy je měřena standardním interferometrem a celý profil asféry je rekonstruován pomocí vylepšeného sešívacího algoritmu. Metoda umožňuje přesné změření asféry s odchylkou až 1000 vlnových délek od koule nejlepšího proložení, bez nutnosti použití jednoúčelových nulových čoček. V příspěvku se uvádějí základní principy této interferometrické metody využívající určité zařízení VON.