This article describes the data processing obtained by the AFM using the programming language and software Matlab. The basic examples are scripts for two-dimensional and three-dimensional surface structure, histogram of heights and S parameters. However, these examples can be applied to other SPM methods. The benefits of such usage over the original software from microscope are almost unlimited possibilities of processing with the data obtained. and Článek popisuje zpracování dat pořízených metodou AFM za využití programovacího jazyka a nástroje Matlab. Jako základní příklady jsou uvedeny kódy pro dvoj a trojrozměrné zobrazení struktury povrchu, histogramu výšek a S parametrů. Uvedené příklady však lze aplikovat i na jiné SPM metody. Výhodou takového zpracování oproti softwaru dodaného k mikroskopu pak je naprostá volnost práce se získanými daty.
The paper deals with the influence of longtime exposition of typical glass - forming material at low temperatures (100 - 300 K) over its dielectric spectrum in frequency range 100 Hz - 1 MHz. Changes of the process of high-frequency part of watched relaxation maximum depending on the time of exposition are studied in the main. The transition from linear process σe ¢¢= f (εw), watched at short time of exposition, to incurvate process, watched at protraction of exposition, is explicated as a denotation of another relaxation process, which is covered with the original relaxation maximum at short time of exposition and which crops out step by step from the background. The occurrence of this second relaxation process is watched according to two arguments - temperature of the sample and time of the exposition. The microscopic mechanism is discussed, which leads to its rise. and Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu εe ¢¢= f(εw), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu při krátkých expozicích překrytého původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy vedoucí k jeho vzniku.