Povlakovací PVD zařízení Pi111

Title:

Povlakovací PVD zařízení Pi111
PVD coating equipment Pi111

Creator:

Vogl, Petr and Holubář, Pavel

Identifier:

https://cdk.lib.cas.cz/client/handle/uuid:4470e8bd-c629-4510-aaed-e1b8b16daa2f
uuid:4470e8bd-c629-4510-aaed-e1b8b16daa2f

Subject:

Pi111, coating equipment, PVD coatings, povlakovací zařízení, and PVD povlaky

Type:

model:article and TEXT

Format:

bez média and svazek

Description:

Companies Pivot and Platit offer on the market PVD coating equipments using the principle of evaporation by the means of low voltage arc. Equipment type Pi80 has already been produced for 8 years and type Pi300 for more than 5 years. That is why a development of new generation of coating equipments, which use and will use similar principales of evaporation from rotating cathodes has started. The new equipments will however also bring new possibilities in technology, operation and equipment flexibility and of course also new possibilities in preparation of PVD coatings. The first equipment of the new generation was introduced at EMO´09 world exhibition in Milano at the beginning of October 2009. It was coating equipment Pi111, which is a dignified successor of the older Pi80 line. The specification and all advantages of the new equipment make the main content of this article. and Společnosti Pivot a Platit nabízí na trhu PVD povlakovací zařízení využívající princip odpařování pomocí nízkonapěťového oblouku. Zařízení typu Pi80 je vyráběno již 8 let a zařízení Pi300 více jak 5 let. Proto byl zahájen vývoj nových generací povlakovacích zařízení, která využívají a budou využívat podobné principy odpařování z rotačních katod. Nová zařízení ale také přinesou nové možnosti v technologii, obsluze a flexibilitě zařízení a samozřejmě i nové možnosti v přípravě PVD povlaků. První zařízení z této nové generace bylo představeno na světovém veletrhu EMO 2009 v Milánu počátkem října 2009. Jednalo se o zařízení Pi111, které je důstojným nástupcem starší řady Pi80. Specifikace a veškeré výhody tohoto nového zařízení jsou hlavní náplní článku.

Language:

Czech

Rights:

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
policy:public

Coverage:

236-238

Source:

Jemná mechanika a optika: věda - výzkum - technologie - realizace : technický oborový časopis = Fine mechanics and optics | 2010 Volume:55 | Number:9

Harvested from:

CDK

Metadata only:

false