Companies Pivot and Platit offer on the market PVD coating equipments using the principle of evaporation by the means of low voltage arc. Equipment type Pi80 has already been produced for 8 years and type Pi300 for more than 5 years. That is why a development of new generation of coating equipments, which use and will use similar principales of evaporation from rotating cathodes has started. The new equipments will however also bring new possibilities in technology, operation and equipment flexibility and of course also new possibilities in preparation of PVD coatings. The first equipment of the new generation was introduced at EMO´09 world exhibition in Milano at the beginning of October 2009. It was coating equipment Pi111, which is a dignified successor of the older Pi80 line. The specification and all advantages of the new equipment make the main content of this article. and Společnosti Pivot a Platit nabízí na trhu PVD povlakovací zařízení využívající princip odpařování pomocí nízkonapěťového oblouku. Zařízení typu Pi80 je vyráběno již 8 let a zařízení Pi300 více jak 5 let. Proto byl zahájen vývoj nových generací povlakovacích zařízení, která využívají a budou využívat podobné principy odpařování z rotačních katod. Nová zařízení ale také přinesou nové možnosti v technologii, obsluze a flexibilitě zařízení a samozřejmě i nové možnosti v přípravě PVD povlaků. První zařízení z této nové generace bylo představeno na světovém veletrhu EMO 2009 v Milánu počátkem října 2009. Jednalo se o zařízení Pi111, které je důstojným nástupcem starší řady Pi80. Specifikace a veškeré výhody tohoto nového zařízení jsou hlavní náplní článku.
It is advantageous to have a tool for a coating stoichiometry calculation to control coating deposition made from two different cathodes. Stoichiometry depends not only on arc currents ratio, but also on intensity and shape of magnetic field. This relation has been experimentally verified and is presented for TiAlN coating prepared by a new coating device Pi111. With the aid of this tool, it is possible to estimate coating parameters and to reach the desired Al/Ti ratio in a coating. With increasing content of Al in a coating, cubic structure shifts to hexagonal structure. This change proves itself not only by hardness decrease, but also by a change of coating growth rate. For detailed description of this effect, method of calculation of coating stoichiometry described above was used., Článek je zaměřen na problematiku určování stechiometrie vrstev nanášených metodou PVD. Patentovaný systém rotačních katod umožňuje ze znalosti procesních parametrů určit složení výsledné vrstvy. To je ovlivněno nejen poměrem proudů do oblouků, ale také intenzitou a tvarem magnetických polí katod. Tato závislost byla experimentálně prokázána pro vrstvu Ti1-xAlx N připravenou na novém povlakovacím zařízení Pi111. Této závislosti bylo dále využito pro vývoj metody umožňující optimalizovat procesní parametry tak, abychom získali vrstvu Ti1-xAlx N s požadovanou stechiometrií. Se zvyšujícím se obsahem hliníku v povlaku Ti1-xAlx N dochází ke změně kubické struktury na hexagonální. Tato změna je doprovázena nejen snížením mikrotvrdosti vrstvy, ale také změnou rychlosti růstu vrstvy. Pro odhalení tohoto efektu byla s úspěchem využita metoda výpočtu stechiometrie vrstvy zmíněná výše., and Autor: M. Jílek ml.