Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

Title:

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

Creator:

Potoček, Michal, Bábor, Petr, and Šikola, Tomáš

Identifier:

https://cdk.lib.cas.cz/client/handle/uuid:e1ca5407-f3a0-43f8-8381-d4ddeca3324a
uuid:e1ca5407-f3a0-43f8-8381-d4ddeca3324a

Subject:

thermal desorption spectroscopy, TDS, desorption, adsorption, termální desorpční spektroskopie, desorpce, and adsorpce

Type:

model:article and TEXT

Format:

bez média and svazek

Description:

Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported. and V článku jsou prezentovány teoretické základy termální desorpční spektroskopie a její aplikace ve výzkumu povrchů a tenkých vrstev. Jako příklad použití metody je uvedena studie kontaminace Si desek.

Language:

Czech

Rights:

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
policy:public

Coverage:

217-218

Source:

Jemná mechanika a optika: věda - výzkum - technologie - realizace : technický oborový časopis = Fine mechanics and optics | 2009 Volume:54 | Number:7-8

Harvested from:

CDK

Metadata only:

false