Camera systems or scanners are expected to demonstrate their high resolution. Among typical examples we can count automatic systems for recognition or monitoring, pictures for cartographic purposes or medical microimages. To meet rising requirements is not easy, especially when the price of the device has to stick reasonable limits. The possible solution is so called pixel sub-stepping. Using this virtual pixel multiplier it is possible to improve the resolution of all recording systems and therefore significantly also picture quality. The piezoelectric shifting in these systems plays a crucial role. and Od kamerových systémů nebo skenerů často očekáváme vysoké rozlišení. Typickými příklady jsou automatické systémy pro rozpoznávání nebo sledování, snímky pro kartografické účely nebo mikroskopické snímky v lékařské technice. Vyhovět stoupajícím nárokům není jednoduché zejména pokud je nutné, aby cena zařízení zůstala v rozumných mezích. Možnost řešení nabízí takzvaný pixel sub stepping. S tímto virtuálním násobičem pixelů je možné zvýšit rozlišení všech záznamových systémů. Tím se podstatně zvýší kvalita snímků. Důležitou roli v těchto systémech hrají piezoelektrické posuvy.
Laser lithography is a crucial technology for a number of today production activities. Typical examples are micro and nanoelectronics, micro and nanofluidics, photonics and biotechnology. Current procedures for creation 2D structures (or 2.5D ones considering the layer thickness) in sensitive to light materials are at the edge of their limits both in the research and industry. But a progress in lithography is also not yet abandoned, using the new procedure it is for the first time possible to build up the very complex 3D micro and nanostructures in sensitive to light materials. and Laserová litografie je klíčovou technologií pro mnoho oborů dnešní doby. Typickými příklady jsou mikro a nanoelektronika, mikro a nanofluidika, fotonika nebo biotechnologie. Dosud běžné postupy, s jejichž pomocí se dají vytvářet dvourozměrné (případně i dvou a půl rozměrné, pokud vezmeme v úvahu tloušťku vrstvy) struktury ve světlocitlivých materiálech, dosahují jak ve výzkumu, tak v průmyslu hranice svých možností. Ale ani v oblasti laserové litografie se vývoj nezastavil. Pomocí nového postupu je poprvé možné vytvářet také velmi komplexní třírozměrné mikro a nanostruktury ve světlocitlivých materiálech.