The paper describes simulation method for the evaluation of Coulomb interactions on energy spread in electron beam in the vicinity of Schottky emission source. It presents also some preliminary results of performed Monte Carlo simulations. and Článek se zabývá problematikou výpočtu vlivu coulombovských interakcí částic na energiovou šířku emitovaného svazku v blízkosti Schottkyho katody. Popisuje model i vlastní simulaci Monte Carlo elektronového emisního zdroje a metodiku zpracování výsledků.
Účinná detekce elektronů ve všech typech elektronových mikroskopů je základním předpokladem pro získávání kvalitní informace o povaze zkoumaného vzorku a dosažení vyššího rozlišení detailů na povrchu vzorku. Tento přehledový článek shrnuje výsledky, které byly dosaženy v oblasti detekce signálních elektronů, zejména sekundárních a zpětně odražených elektronů, v rastrovacích elektronových mikroskopech. Podává charakteristiku obrazu tvořeného sekundárními a zpětně odraženými elektrony a soustřeďuje se především na scintilačně-fotonásobičové systémy. Uvádí přehled detekčních metod používaných v mikroskopech střední a vyšší třídy a v mikroskopech s nízkou energií primárního elektronového svazku při jejich dopadu na vzorek., Rudolf Autrata, Bohumila Lencová, Vilém Neděla., and Obsahuje seznam literatury
The paper gives a brief overview of computational methods used in the Institute of Scientific Instruments of AS CR for the design of electron optical devices. The possibilities of the software are then illustrated on the computations of correctors of spherical aberration for transmission and scanning electron microscopes.
The paper describes an improvement of electron-beam lithograph BS 600 working with a fixed accelerating voltage of 15 kV and a rectangular-shape variable-size electron beam. The system has undertaken an important upgrade during last few years. Main goal was to increase the resolution and the writing speed. Achieved parameters and characteristics of the system are described as well as few examples of prepared structures. and Článek popisuje úpravu původního elektronového litografu BS 600 pracujícího s urychlovacím napětím 15 kV, který prošel v posledních letech výraznou rekonstrukcí. Základní požadavky jsou kladeny na zlepšení rozlišení a zvýšení expoziční rychlosti. Kromě vlastností a dosažených parametrů jsou uvedeny rovněž příklady struktur vytvořených pomocí tohoto systému. Litograf je využíván pro přípravu masek, přímou litografii i realizaci reliéfních struktur. Pro kontrolu realizovaných struktur byl použit mikroskop s rastrující sondou a rastrovací elektronový mikroskop.