The paper describes the single point diamond turning (SPDT) technology which represents possibility of ultraprecision machining with accuracy in fraction of wavelength in visible spectrum of light. The possibility of ultraprecision machining of different materials and freeform surfaces makes it demanded technology used for example in optical industry, where the technology serves for manufacturing of freeform metal mirrors, optical elements from plastic and some crystalline materials for infrared spectrum. and Článek pojednává o single point diamond turning (SPDT - bodové soustružení diamantem) technologii, která představuje velmi precizní možnost obrábění s přesností zlomků vlnové délky v oblasti viditelného spektra záření. Možnost obrábět libovolné tvary povrchů různých typů materiálů s velkou přesností z ní činí velmi žádanou technologii používanou např. v optickém průmyslu, kde slouží k výrobě obecných kovových zrcadel a optických prvků z plastů a některých krystalických materiálů pro infračervenou oblast spektra.
Lead zirconatetitanate (PZT) is widely used for its ferroelectric and piezoelectric properties. Its unique properties are conditioned by perovskite structure. Crystallization into this phase is determined among others by a proper stoichiometry, where the lead concentration is a crucial parameter. That is why this paper is devoted to the control of chemical composition of PZT thin films deposited via ion beam sputtering (IBS). Our study showed that the determinative lead content in PZT films prepared by ion-beam sputtering from a multicomponent target can be easily controlled by the power of primary ion source. At the same time, the composition is also dependent on the substrate temperature and the power of assistant ion source. and Olovo zirkonát-titanát (PZT) je široce používaný pro svoje feroelektrické a piezoelektrické vlastnosti, které jsou podmíněny perovskitovou strukturou. Krystalizace PZT do této preferované fáze je podmíněna mimo jiné také správným stechiometrickým složením, kde koncentrace olova je kritickým parametrem. Samotný proces krystalizace probíhá při vysokoteplotním žíhání, při kterém ovšem dochází k nežádoucímu snížení obsahu olova v deponované vrstvě. Proto je dobré připravit vrstvu s přebytkem olova, a tím tak kompenzovat jeho úbytek při žíhání. Z toho důvodu je tento článek zaměřen na řízení chemického složení tenkých filmů PZT pomocí naprašování iontovým svazkem (IBS). Vrstvy nanesené pomocí IBS by měly teoreticky vykazovat stejné chemické složení jaké má terč, z kterého jsou nanášeny. Nicméně, v případě PZT je vhodné mít možnost kontrolovaně měnit chemické složení naprašovaných tenkých filmů pro dosažení vysokého perovskitového podílu. Naše studie odhalila, že určující obsah olova v PZT vrstvách, připravených pomocí jednoduché a duální iontové depozice z vícesložkového terče, může být snadno řízen výkonem primárního iontového zdroje. Složení je také závislé na teplotě substrátu a na energii iontů asistenčního iontového zdroje. Tenké PZT vrstvy byly připraveny s více než 30% přebytkem ze stechiometrického vícesložkového terče (tj. terč bez přebytku olova). Můžeme tedy navrhnout několik možných setů depozičních parametrů vhodných pro depozici PZT pomocí IBS pro dosažení vysokého perovskitového podílu.
Using aluminum films combined with protective dielectric film is amethod of choice for many reflective applications in the visible (VIS) and the near infrared (NIR) range. An optical defect occurred during the introduction of the deposition aluminum (Al) films protected by a silicon dioxide (SiO2 ) protective film in our laboratory. Both films were deposited using an electron beam evaporator. S iO2 layers were deposited using the ion beam assisted deposition (IBAD). The results were not satisfactory. Produced films were matting and struggled with a significant reflectance decrease. The article presents an experimental approach which has been performed in order to eliminate the matting effect and the reflectance decrease. and Hliníková vrstva v kombinaci s ochrannou dielektrickou vrstvou je jedna z nejčastěji používaných možností pro výrobu reflexních prvků v oblasti viditelného a blízkého infračerveného světla. Při depozici těchto vrstev v naší laboratoři byl pozorován problém s degradací kvality ve formě viditelného zašednutí a výrazné ztráty reflektance. Hliníková i dielektrické vrstvy jsou nanášeny vakuovým odpařováním z elektronového děla. V případě dielektrické vrstvy je pak použita varianta zvaná IBAD (Ion Beam Assisted Deposition). Článek představuje výsledky experimentů, kterými byl nalezen optimální procesní postup eliminující degradaci optické kvality deponovaných vrstev.
RODES - Robust Hyperspectral Detection System is the next development stage for the detection of hazardous chemicals by spectral analysis in the infrared spectrum. The optical system is made up of many aspherical surfaces requiring high accuracy of fit within the opto-mechanical system. In order to store the optical elements in the mechanical parts, a new way of storage has been developed, which makes it easy to manufacture and ensures high storage accuracy. and Projekt RODES, neboli robustní hyperspektrální detekční systém, je další vývojový stupeň zařízení pro detekci nebezpečných chemických látek pomocí spektrální analýzy v infračervené oblasti spektra. Optická soustava systému je tvořena mnoha asférickými plochami, které vyžadují vysokou přesnost uložení v rámci optomechanického systému. Pro uložení optických prvků do mechanických dílů byl vyvinout nový způsob uložení, který umožňuje snadnou výrobu a zajišťuje vysokou přesnost uložení.
For the precise glass molding it is necessary to use forms coated with an antiadhesive layer. There are many layers with antiadhesive properties known today, but each one has slightly different properties and is therefore more suitable for various applications. The objective of testing antiadhesive layers in Toptec, Institute of Plasma Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, is to find optimal layers for precise glass molding that they are most suitable for use with the currently used mold and glass material. and Pro lisování optických elementů je nezbytné použít formy povlakované antiadhezní vrstvou. Vrstev s antiadhezními vlastnostmi je dnes známa celá řada, ale každá z nich má mírně odlišné vlastnosti a je tedy pro různé aplikace vhodnější. Cílem testování antiadhezních vrstev v Toptec, Ústavu fyziky plazmatu, Akademie věd ČR, je nalezení optimálních vrstev pro lisování optických komponent tak, aby byly co nejvhodnější pro použití s aktuálně používaným materiálem formy a skla.