In the past decade, utilization of nanostructured materials has increased intensively in a wide range of applications. Titanium dioxide nanoparticles (TiO2 NPs), for instance, can be applied for the inactivation of various pathogens through photo-induced generation of reactive oxygen species. Although TiO2 NPs with high antimicrobial activity are of great importance, in practice, their phytotoxic effects have not yet been fully clarified. In this study, we investigated the potential phytotoxicity of TiO2 NPs on grapevine (Vitis vinifera L.) under field conditions. After foliar exposure, two particularly stress-sensitive parameters, photosynthetic function and the flavonol profile, were examined. Micro- and macroelement composition of the leaves was also studied by ICP-AES measurements. We found that TiO2 NPs significantly decreased the net CO2 assimilation and increased stomatal conductance, indicating metabolic (nonstomatal) inhibition of the photosynthesis. The lower electron transport rate and lower nonphotochemical quenching in treated leaves are indicative of diminished photoprotective processes., P. Teszlák, M. Kocsis, A. Scarpellini, G. Jakab, L. Kőrösi., and Obsahuje bibliografii
A combination of titanium dioxide (TiO2 ) and silicon dioxide (SiO2 ) has been used for decades in the field of optical interference filters. Their combination is a frequently used deposition method for most application in the visible (VIS) and near infrared (NIR) spectral range. They are applied for simple coatings such as antireflective coatings as well as for demanding coatings consisting of dozens of layers. In spite of its common usage we found undescribed optical losses in our coatings. The losses appeared at the time when we introduced the combination in our laboratory process using the ion beam assisted deposition (IBAD) with e-gun. We did not find any piece of published information which covers using combination of TiO2 and SiO2 . In this article we focus on modifying process parameters so that the losses are reduced. and Kombinace oxidu titaničitého (TiO2 ) a oxidu křemičitého (SiO2 ) se pro interferenční filtry používá již desítky let. Ve většině aplikací pro oblast viditelného a blízkého infračerveného spektra je tato kombinace nejlepší volbou, a to jak pro jednoduché filtry, tak i pro složité soustavy desítek vrstev. Přesto se při depozici těchto materiálů vakuovým odpařováním z elektronového děla s iontovou asistencí v naší laboratoři objevil ve vrstvách problém nepředpokládaných ztrát světla. Podobný jev nebyl, dle naší rešerše, popsán v žádné dostupné literatuře. Článek popisuje experimenty směřující k nalezení původu těchto ztrát a jejich potlačení.
Using aluminum films combined with protective dielectric film is amethod of choice for many reflective applications in the visible (VIS) and the near infrared (NIR) range. An optical defect occurred during the introduction of the deposition aluminum (Al) films protected by a silicon dioxide (SiO2 ) protective film in our laboratory. Both films were deposited using an electron beam evaporator. S iO2 layers were deposited using the ion beam assisted deposition (IBAD). The results were not satisfactory. Produced films were matting and struggled with a significant reflectance decrease. The article presents an experimental approach which has been performed in order to eliminate the matting effect and the reflectance decrease. and Hliníková vrstva v kombinaci s ochrannou dielektrickou vrstvou je jedna z nejčastěji používaných možností pro výrobu reflexních prvků v oblasti viditelného a blízkého infračerveného světla. Při depozici těchto vrstev v naší laboratoři byl pozorován problém s degradací kvality ve formě viditelného zašednutí a výrazné ztráty reflektance. Hliníková i dielektrické vrstvy jsou nanášeny vakuovým odpařováním z elektronového děla. V případě dielektrické vrstvy je pak použita varianta zvaná IBAD (Ion Beam Assisted Deposition). Článek představuje výsledky experimentů, kterými byl nalezen optimální procesní postup eliminující degradaci optické kvality deponovaných vrstev.