Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported. and V článku jsou prezentovány teoretické základy termální desorpční spektroskopie a její aplikace ve výzkumu povrchů a tenkých vrstev. Jako příklad použití metody je uvedena studie kontaminace Si desek.