One of the main goals in e-beam lithography is to increase exposure speed to achieve higher throughput. There are basically two types of electron-beam writers, shaped beam lithography systems and Gaussian beam lithography systems. The exposure time of both
e-beam writers consist in essence of beam-on time, deflection system stabilization time and stage movement time. Exposure time testing was carried out on two types of patterns. There were completely filled in areas, binary period gratings (ratio 1:1 between exposed and unexposed areas), and multileveled structures (computer generated holograms). Exposures data was prepared according to standard technology (PMMA resist, exposure dose, non-alcoholic based developer) for both systems. The result of experiment shows that variable shaped beam system has advantage in multileveled structures while the Gaussian beam system is more suitable for gratings type of pattern. It was proved that combination of both systems has its use to increase exposures throughput. and Jedním z hlavních témat vývoje v oblasti elektronové litografie je zvýšení expoziční rychlosti, tedy zvýšení výkonnosti, resp. propustnosti. Existují dva základní typy elektronových litografů, elektronové litografy pracující s obdélníkovým svazkem proměnné velikosti a elektronové litografy pracující s gaussovským svazkem kruhového průřezu. Expoziční doba obou typů litografických systémů se v podstatě skládá z doby otevření svazku, z doby stabilizace vychylovacího systému a z doby pojezdu stolu s exponovaným substrátem. Měření expoziční doby, resp. doby expozice, bylo prováděno na dvou typech exponovaných struktur: binárních mřížkách (s poměrem mezi exponovanou a neexponovanou oblastí 1:1) a víceúrovňových strukturách (počítačem generovaných hologramech). Expoziční data byla připravena tak, aby bylo možné zpracovat exponované substráty z obou typů litografů stejným technologickým postupem (PMMA resist, vyvolávací doba, bezalkoholová vývojka). Na základě výsledků experimentů můžeme říci, že litografický systém s obdélníkovým svazkem proměnné velikosti je výhodnější použít pro expozice víceúrovňových struktur, zatímco systém s gaussovským svazkem je vhodnější pro struktury typu mřížek. Bylo prokázáno, že zkombinování obou typů litografických systémů na jedné expozici může vést ke zvýšení expoziční rychlosti, a tedy propustnosti.
The paper describes an experimental electron gun which is based on a cold auto-emission cathode made from polymer-graphite. This relatively modern composite material from which micro-pencil refills are traditionally made contains a polymer-based binding agent and graphite flakes with an up to 80 % content of sp3 hybridized carbon, which makes it seem a highly suitable material for electrode manufacture in general. In this article, we discuss the function of a graphite cathode in connection with the use of a gun in electron optical equipment, e.g. electron microscopes. Cathode parameters are discussed mainly in connection with undesirable impacts which generally occur in free-electron sources at room temperature. We also discuss specific aspects of the polymer graphite use. and Příspěvek popisuje experimentální elektronovou trysku, která je založená na autoemisní studené katodě vyrobené z polymerního grafitu. Tento relativně moderní kompozitní materiál, který se běžně používá pro výrobu náplně do mikrotužek, se skládá z pojiva na bázi polymeru a z grafitových vloček, které obsahují až 80 % sp3 hybridizovaného uhlíku, což se jeví jako velice vhodný materiál pro výrobu elektrod obecně. V tomto článku diskutujeme funkci grafitové katody s ohledem na možné využití trysky v elektronově optických zařízeních, jako je např. elektronový mikroskop. Parametry katody jsou diskutovány především ve spojitosti s nežádoucími vlivy, které se objevují obecně u zdrojů volných elektronů provozovaných za pokojové teploty, a dále diskutujeme konkrétní aspekty spojené s použitím polymerního grafitu.