V tomto příspěvku je popsáno využití mikroskopie založené na detekci atomárních sil (AFM) pro přípravu a pozorování nanostruktur vytvořených anodickou lokální oxidací na titanu. Je ukázáno, že v souladu s Cabrerovou-Mottovou teorií výška oxidových vrstev vytvořených pomocí AFM lineárně vzrůstá s napětím přiloženým mezi hrot a vzorek, zatímco rozměr pološířky tuto závislost nevykazuje. Dále je vynesena spojitost mezi výškou a pološířkou oxidových čar v závislosti na rychlosti pohybu hrotu po vzorku v průběhu oxidace. Rovněž je popsáno chování odporu tenkých vodivých kanálků vzhledem k jejich šířce., David Škoda, Filip Lopour, Radek Kalousek, David Burian, Jiří Spousta, Tomáš Šikola, František Matějka., and Obsahuje seznam literatury
Article deals with a sensitivity analysis of fitting procedure: theoretical model of reflectance is fitted to an ''ideal'' data by applying Levenberg - Marquardt algorithm in order to determine optical properties, their accuracy and reliability factor used to quantify a convergence successfulness of the reflectance model at given set of starting parameters vector. and V článku je popsána základní myšlenka citlivostní analýzy fitovací procedury běžně používané při vyhodnocování optických parametrů tenkých vrstev. Hledání minimální hodnoty sumy čtverců odchylek teoretické závislosti a závislosti získané experimentálně je často negativně ovlivněno výběrem startovacího vektoru optických parametrů. Proto je v příspěvku zaveden a diskutován tzv. faktor spolehlivosti, který vypovídá o pravděpodobnosti nalezení věrohodného výsledku fitováním. Počáteční vektor startovacích parametrů je vybírán z určitého okolí ideálního (známého) řešení a sleduje se, zda bylo po fitovací proceduře dosaženo shody (True), či nikoliv (False) s tímto řešením. Faktor spolehlivosti je pak zaveden jako poměr počtu úspěšných (True) ku celkovému (True+False) počtu výpočtů. Ukazuje se, že existují takové kombinace optických parametrů zkoumaných vrstev, že lze ke shodě s ideálním řešením dojít téměř vždy, nezávisle na volbě startovacího vektoru parametrů (např. situace pro tloušťku SiO2 vrstvy na Si dSiO2 = 130 nm). Na druhé straně je možné identifikovat i tloušťky, pro které je vyhledání minima odchylek na tomto počátečním parametru silně závislé (např. dSiO2 = 485 nm). Pro srovnání je rovněž uveden faktor spolehlivosti pro vyhodnocování vrstvy TiO2 na Si. Výsledky, prezentované v tomto příspěvku, byly určovány pomocí vlastního programu reliabiliTy.exe, který se ukázal jako vhodný nástroj k provádění předběžné analýzy citlivosti fitovací metody na volbu startovacích parametrů vrstev.
Article deals with a sensitivity analysis of fitting procedure: theoretical model of reflectance is fitted to an „ideal“ data by applying Levenberg - Marquardt algorithm in order to determine optical properties, their accuracy and reliability factor used to quantify a convergence successfulness of the reflectance model at given set of starting parameters vector. and V článku je popsána základní myšlenka citlivostní analýzy fitovací procedury běžně používané při vyhodnocování optických parametrů tenkých vrstev. Hledání minimální hodnoty sumy čtverců odchylek teoretické závislosti a závislosti získané experimentálně je často negativně ovlivněno výběrem startovacího vektoru optických parametrů. Proto je v příspěvku zaveden a diskutován tzv. faktor spolehlivosti, který vypovídá o pravděpodobnosti nalezení věrohodného výsledku fitováním. Počáteční vektor startovacích parametrů je vybírán z určitého okolí ideálního (známého) řešení a sleduje se, zda bylo po fitovací proceduře dosaženo shody (True), či nikoliv (False) s tímto řešením. Faktor spolehlivosti je pak zaveden jako poměr počtu úspěšných (True) ku celkovému (True+False) počtu výpočtů. Ukazuje se, že existují takové kombinace optických parametrů zkoumaných vrstev, že lze ke shodě s ideálním řešením dojít téměř vždy, nezávisle na volbě startovacího vektoru parametrů (např. situace pro tloušťku SiO2 vrstvy na Si dSiO2 = 130 nm). Na druhé straně je možné identifikovat i tloušťky, pro které je vyhledání minima odchylek na tomto počátečním parametru silně závislé (např. dSiO2 = 485 nm). Pro srovnání je rovněž uveden faktor spolehlivosti pro vyhodnocování vrstvy TiO2 na Si. Výsledky, prezentované v tomto příspěvku, byly určovány pomocí vlastního programu reliabiliTy.exe, který se ukázal jako vhodný nástroj k provádění předběžné analýzy citlivosti fitovací metody na volbu startovacích parametrů vrstev.
Podáváme zprávu o měření povrchových plazmonových polaritonú pomocí rastrovacího optického mikroskopu v blízkém poli. Interference povrchových plazmonových polaritonů byla pozorována na soustavě excitačních drážek vyleptaných do kovové vrstvy pomocí fokusovaného iontového svazku. Ukazujeme, že tvar interferenčních obrazců je závislý na úhlu polarizace dopadajícího světelného svazku vzhledem k orientaci struktur., The article deals with the measurement of surface plasmon polaritons using near field scanning optical microscopy. The interference patterns of surface plasmon polaritons were measured between the excitation grooves etched in the metallic layer by focused ion beam. In particular, interference patterns depend on the mutual angle between the polarization state of the incident light and the orientation of the structure., Lukáš Břínek [et al.]., and Obsahuje seznam literatury
This paper is dedicated to the interaction of light with metallic nanostructures. We give basic physical principles of light scattering on metallic particles; the technological steps when using electron lithography for fabrication of these nanostructures are shown; furthermore, methods how to measure the spectral response of samples with nanostructures are described. Advanced and sophisticated methods are generally required in nanotechnology. Therefore, we suggest applications of patterns consisting of metallic nanostructures exhibiting low level of falsification in the field of security-pattern industry. and Článek se zabývá měřeními interakce světla s kovovými nanostrukturami. Je stručně vysvětlen fyzikální princip, jakým se světlo na kovových částicích rozptyluje. Jsou naznačeny jednotlivé kroky při výrobě nanostruktur pomocí elektronové litografie a rovněž je popsáno, jak byly získány spektrální odezvy vzorků s nanostrukturami. Nanotechnologie obecně vyžadují používání pokročilých metod výroby a analýzy. Z toho důvodu navrhujeme aplikace vzorů vytvořených z kovových nanostruktur v oblasti výroby ochranných průmyslových prvků, neboť takové vzory se vyznačují nízkou úrovní padělatelnosti.
In the contribution the results on the combination of ion sputtering and scattering processes for achieving enhanced complementary information on the analyzed multilayer are reported. Physical background of ion-solid interactions is discussed. Specifically, the combination of SIMS and TOF-LEIS techniques will be introduced. and V tomto článku je diskutována problematika interakce iontů s pevnou látkou. Podrobněji je diskutována možnost využití mechanických vlastností iontů k analýze 2D nanostruktur (vrstev s tloušťkou v jednotkách nanometrů) pomocí metod SIMS a TOF-LEIS.
Příspěvek se zabývá otázkou interakčních sil mezi hrotem sondy a studovaným povrchem při měření profilu povrchu pomocí bezkontaktní mikroskopie atomárních sil (AFM), které jsou zodpovědné za atomární rozlišení. Využitím kombinace dalekodosahových přitažlivých van der Waalsových sil a krátkodosahových odpudivých sil jsou prezentovány simulace zobrazovacích principů. Toto modelování umožňuje získat obrázky vybraných povrchů (např. Si) a diskutovat limity rozlišení metody., Radek Kalousek, David Škoda, Filip Lopour, Tomáš Šikola., and Obsahuje seznam literatury
Optical properties of periodic structures and one-dimensional nanowires have been studied by Scanning Near-Field Optical Microscopy (SNOM). The optical waveguide connected to the tuning fork detector was used for the illumination of the sample or the collection of electromagnetic field close to surface of optically active structures. This contribution presents the ability of new instrument - scanning near-field optical microscope - and the recent results on studied nanostructures. and Optické vlastnosti periodických struktur a stříbrných nanovláken byly studovány pomocí rastrovací mikroskopie blízkého pole. Iluminace zkoumaného vzorku nebo detekce elektromagnetického pole v blízkosti povrchových, opticky aktivních struktur byla provedena pomocí optického vlákna připevněného na kmitající ladičku. Následující příspěvek prezentuje nově používané zařízení, rastrovací mikroskop blízkého pole a dosavadní výsledky získané při studiu nanostruktur.
Optical properties of periodic structures and one-dimensional nanowires have been studied by Scanning Near-Field Optical Microscopy (SNOM). The optical waveguide connected to the tuning fork detector was used for the illumination of the sample or the collection of electromagnetic field close to surface of optically active structures. This contribution presents the ability of new instrument - scanning near-field optical microscope - and the recent results on studied nanostructures. and Optické vlastnosti periodických struktur a stříbrných nanovláken byly studovány pomocí rastrovací mikroskopie blízkého pole. Iluminace zkoumaného vzorku nebo detekce elektromagnetického pole v blízkosti povrchových, opticky aktivních struktur byla provedena pomocí optického vlákna připevněného na kmitající ladičku. Následující příspěvek prezentuje nově používané zařízení, rastrovací mikroskop blízkého pole a dosavadní výsledky získané při studiu nanostruktur.